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| 銷售商： 那諾-馬斯特中國有限公司 | 查看該公司所有產品 >> |
NPC-3500(A)全自動等離子去膠機(刻蝕機)概述：NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
NPC-3500(A)全自動等離子去膠機(刻蝕機)產品特點：
- 緊湊型立式系統(tǒng)
- 自動上下載片
- 帶Load Lock
- 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
- 兼容100級超凈間使用
- 淋浴頭、ICP或微波等離子源
- 旋轉樣品臺
- RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺
- 全自動或手動RF調諧
- z多可支持5個MFC帶電拋光的氣體管路
- PC計算機控制的氣動閥
- 帶密碼保護的多級訪問控制
- 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
- 機械泵的壓力可達到10mTorr
- 250 l/s的渦輪分子泵
- 極限真空為5x10-7Torr
- 完整的安全聯(lián)鎖
應用：
- 有機物以及無機物的殘留物去除
- 光刻膠剝離或灰化
- 去殘膠以及內腐蝕(深腐蝕)應用
- 清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架
- 提高黏附性，消除鍵合問題
- 塑料的表面改型：O2處理以改進涂覆性能
- 產生親水或疏水表面
品質：提供優(yōu)質的產品和服務，同時通過持續(xù)的改進保證對品質的個人所有權。我們選擇最好的人選參與到我們的工作，員工均具有豐富的領域經驗。
承諾：致力于客戶的成功。并且伴隨按時、按規(guī)格、控制預算成本。開發(fā)、成長和繁榮以保持競爭水平，并能夠以最好的方式服務我們的客戶和我們的社區(qū)。
創(chuàng)新：我們識別、開發(fā)并部署最前沿的技術、員工發(fā)展計劃和過程改進工具。我們認識到創(chuàng)新與效率、產能和品質之間的密切關系。
承諾：致力于客戶的成功。并且伴隨按時、按規(guī)格、控制預算成本。開發(fā)、成長和繁榮以保持競爭水平，并能夠以最好的方式服務我們的客戶和我們的社區(qū)。
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