CIF進口的紫外臭氧清洗機
美國BIOFORCE紫外臭氧清洗機（UVO）入駐山東大學
美國Biofore公司的ProCleaner ™的產品線提供非常有競爭力的價位，并給研究者提供更多的選擇機會。該ProCleaner ™裝置的用途是消除分子程度的污染，使探針和表面盡可能清潔。
應用領域：
✲預處理表面圖案化工具
✲清潔硅和氮化硅探針
✲晶圓清洗
✲表面氧化及制備
✲提高表面親水性
✲表面清洗
✲制備薄膜沉積
✲紫外光固化
✲表面圖案化
✲清洗光學鏡頭
✲粘接硅橡膠
✲表面消毒
✲清潔MEMS器件
可處理材料表面：
✲氮化硅
✲ 金屬
✲玻璃
✲云母
✲石英
✲陶瓷
✲聚合物
產品特點：
✲高強度UV燈源，持續高效的清除樣品表面有機污染物；
✲成本低、簡單、經濟、快速；
✲結構緊湊（體積小）；
✲抽屜式樣品臺；
✲多功能樣品定位支架
✲安全聯鎖和指示燈
✲樣品清洗無需溶劑；
✲超潔凈表面；
✲室溫操作。
技術參數：
型號：UV Ozone Cleaner–ProCleaner™ Plus、UV Ozone Cleaner–ProCleaner™
樣品臺尺寸：100mmx125mm；
重量15 lbs。
英國Ossila紫外臭氧清洗機入駐中科院金屬研究所
英國Ossila公司提供的紫外臭氧清洗機（UVO），是一種簡單，經濟，快速的材料表面清洗設備，只需把樣品放置到樣品盤上，關上艙門，設置時間，并按運行，就可以了，能快速去除大多數無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時，紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面，只需要在傳統清洗后，再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得！
目前紫外臭氧清洗機的主要應用表面UV光清洗和表面UV光改質。
表面UV光清洗：利用紫外光以及由其產生的臭氧OZONE，對有機物質所起的光敏氧化分解作用，以達到去除粘附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物），獲得超潔凈的表面。
表面UV光改質：利用紫外光照射有機表面，在將有機物分解的同時，254nm波長的紫外光被物體表面吸收后，將表層的化學結構切斷，光子作用產生原子氧會與被切斷的表層分子結合，并將之變換成具有高度親水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），從而提高表面的浸潤性。
主要應用：
石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。
微電子產品的表面清洗：微型馬達軸,磁頭驅動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導體硅片,掩膜版。
精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結墊的清洗。
在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接，塑料汽車部件，透鏡保護膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導管的表面改型等。
科研過程的表面清洗及處理：半導體，生物芯片，納米材料，聚合物，光化學等。
產品特點
成本低；
✲120x120mm樣品臺；
✲樣品臺自動安全開關,打開UV自動關閉，防止對人身傷害； UVO顯示器
✲LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”；
✲60分鐘定時器；
✲高強度UV燈源；
✲可控溫的樣品臺；
✲樣品清洗無需溶劑；
✲超凈表面。
技術參數
在紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質上(300納米二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。
